科技赋能材料未来 · 共探材料微观之美——CIF第七届材料微结构与性能学术会议圆满收官！

2025年5月15日-17日，由浙江大学材料科学与工程学院主办、浙江省材料研究学会协办的第七届材料微结构与性能学术会议在杭州成功举办。本届会议聚焦 “材料显微结构、电池与催化、光电材料与器件、材料计算与人工智能” 四大核心领域，吸引了来自国内外高校、科研院所及企业的千余名专家学者共襄盛举。

CIF携等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机参加惊艳亮相！深度探讨“材料显微结构、电池与催化、光电材料与器件、材料计算与人工智能”等专题中的热点、重点、难点和发展趋势等问题。交流相关研究成果与学术思想，产学研等前沿应用，促进材料学科建设与人才培养。

我司的展位凭借智能化、高精度、多场景适配的产品特性，吸引了众多高校科研团队、企业技术骨干及行业专家驻足交流。

  在本次展会上，CIF展示的等离子清洗机采用等离子体技术，能够有效去除材料表面的污染物，显著提高工件表面的亲水性。该设备在微电子、半导体、新能源等领域具有广泛应用，为行业提供了高效、环保的清洗解决方案。

  紫外臭氧清洗机同样备受关注。它利用紫外线和臭氧的协同作用，对材料表面进行深度清洁，可有效去除光刻胶残留和有机物污染，特别适用于对表面洁净度要求高微电子制造和光学器件生产等行业。

  匀胶机和烤胶机也展现出性能。匀胶机能够精确控制涂覆厚度，确保材料表面均匀覆盖，为后续工艺提供稳定基础。烤胶机则具备快速升温、精准控温等特点，可满足不同材料和工艺的烘烤需求，广泛应用于芯片制造、印刷电路板等领域。

  在本次展会上，CIF展示的等离子清洗机采用的等离子体技术，能够有效去除材料表面的污染物，显著提高工件表面的亲水性。该设备在微电子、半导体、新能源等领域具有广泛应用，为行业提供了高效、环保的清洗解决方案。

  紫外臭氧清洗机同样备受关注。它利用紫外线和臭氧的协同作用，对材料表面进行深度清洁，可有效去除光刻胶残留和有机物污染，特别适用于对表面洁净度要求的微电子制造和光学器件生产等行业。

  匀胶机和烤胶机也展现出性能。匀胶机能够精确控制涂覆厚度，确保材料表面均匀覆盖，为后续工艺提供稳定基础。烤胶机则具备快速升温、精准控温等特点，可满足不同材料和工艺的烘烤需求，广泛应用于芯片制造、印刷电路板等领域。