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CIF微波等离子清洗机

产品参数

CIF微波等离子清洗机采用微波激发等离子体技术,通过高活性的等离子体对物体表面进行超洁净处理,实现无损伤、无污染的表面清洗、活化和改性。适用于半导体、光电、医疗、航天、科研等领域的精密清洗需求。
属性
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CIF微波等离子清洗机
MPC6/24
生产厂家
1038次
2025-12-16

产品详情

技术原理

微波等离子技术是用微波电磁场激发气体电离,形成低温,高密度等离子体的技术。

应用领域:

u 半导体封装:芯片焊盘清洗、引线框架处理

u 光学器件:透镜、光纤表面清洁与活化

u 医疗植入物:器械、人工关节表面处理

u 汽车电子:传感器、键合表面预处理

u 科研实验:材料表面改性、纳米涂层前处理

产品特点:

u 智能交互界面:7寸彩色触摸屏,中英文双语操作,实时监测与自动调节工艺参数,内置20组配方程序,支持工艺数据存储与追溯。

u 可靠控制系统PLC全程控制,支持手动/自动双模式,清洗过程稳定可靠,重复性优异。

u 双向智能真空控制支持气体流量或腔体压力两种模式精准调控真空度,工艺调控灵活,适应多样化精密处理需求。

u 精准气体管理标配双质量流量计(MFC),支持氧气、氩气、氮气、氢气及混合气体等多种气源,控制精度高,工艺一致性优。

u 洁净防污设计配备HEPA高效过滤器,气体返填吹扫功能,避免交叉污染。

u 优质材质结构真空舱体采用316不锈钢或石英材质,全真空管路为316不锈钢,耐腐蚀、无污染。

u 人性化操作设计符合人体工能学操作面板,上控制下舱体结构,节省空间。

u 高效稳定工艺处理快速均匀,重复性好,样品处理温度低,避免热损伤与热氧化。

u 周全安全保护舱门开启自动断电,可控泄压等多重防护机制,保障操作人员与样品安全。

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