CIF等离子增强器

所属分类：等离子清洗机

表面改性

等离子清洗机紫外臭氧清洗机

表面去胶

等离子去胶机

表面刻蚀

等离子刻蚀机

表面涂层

旋涂机烤胶机溅射镀膜机闪蒸成膜仪

产品参数

CIF等离子增强器是专为CVD管式炉研发的升级改造模块，通过加装等离子体发生装置，可将传统热CVD设备直接升级为PECVD（等离子体增强化学气相沉积）系统，大幅降低用户采购全新PECVD设备的投入成本，适配科研、半导体、新能源等多领域薄膜制备需求。

产品详情

核心优势

u 原位升级改造：现有管式炉直接加装，无需更换整炉，改造周期短、投资成本低，快速实现设备功能升级。

u 低温沉积工艺：利用等离子体高效活化前驱体气体，显著降低反应温度，适配低温不耐受基底。

u 膜层质量优异：沉积薄膜更致密、均匀性好、附着力强，减少膜层缺陷，提升产品合格率。

u 材料体系拓展：可制备传统CVD难以实现的多种功能薄膜，满足不同行业工艺需求。

产品特点

u 智能交互界面：配备7寸彩色触摸屏，支持中英文双语操作，可实时监控、自动调节工艺参数，内置20组工艺配方，数据可存储、可追溯，便捷管理生产/实验流程。

u 稳定控制系统：采用PLC全程控制，支持手动/自动双模式切换，运行稳定可靠，杜绝工艺波动。

u 适配性强：ICP离子源可升降设计，兼容不同品牌、不同规格CVD管式炉，通用性强。

u 人性化结构：操作面板60°倾角设计，符合人体工学，操作舒适便捷；上控制下舱体结构紧凑，节省安装空间。

u 工艺高效稳定：处理速度快、均匀性好、重复性高、洁净无污染，保障批量生产一致性。

u 支持定制化：可根据用户炉体结构、工艺需求，定制离子源规格、控制方式等专属方案。