等离子清洗设备可广泛应用于半导体制造过程中。半导体制造涉及多个步骤,其中之一是可以清洁半导体设备表面,去除沉积物、有机物、灰尘等污染物,确保设备的质量和性能。等离子清洗设备可以利用等离子体产生的活性离子和化学反应,可以在非常小的尺度上进行清洗。
2025-10-15
2024-11-05
2024-09-24
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