• 全自动湿法处理系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX 1201

    CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统,配置cassette to cassette 或foup,,支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理,包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配...

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  • 大尺寸湿法处理系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX 760

    CHEMIXX 760系统是一款大尺寸湿法系统,支持最大样品达535X535mm(21寸方片),更大的样品尺寸可定制,一台系统可实现清洗、蚀刻 、显影 ,干燥整个工艺过程。...

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  • 湿法刻蚀专用系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX E 30Pm

    CHEMIXX E 30 湿法刻蚀系统专门用于掩膜版与晶圆的刻蚀与清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液体。...

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  • CMP后双面清洗机

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX CMP 30pm

    CHEMIXX CMP 30pm是一款专门为晶圆双面清洗设计的系统,独立系统,占地面积小,非常适合有限的空间。具有4路化学液清洗,兆声清洗,双面PVA刷洗,去离子水冲洗等清洗模块,对晶圆有顶级的清洗能...

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  • 标准湿法处理系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX 30pm

    CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统,主要用于晶圆或者方片的清洗,刻蚀,显影等应用,其中清洗部分具有化学清洗,兆声清洗,PVA刷洗,高压DI水冲洗,背部清洗等多种功能。...

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  • 12寸晶圆显影机

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:UNIXX DB20/30

    UNIXX DB30 型晶圆显影机是一款针对12寸及以下尺寸晶圆的半自动系统,系统可集成显影,清洗,干燥等模块,同时可用于方片显影,最大尺寸230mm*230mm。...

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  • 8寸晶圆显影机

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:UNIXX D20

    UNIXX DB20 型晶圆显影机是一款针对8寸及以下尺寸晶圆的半自动系统,系统可集成显影,清洗,干燥等模块,同时可用于方片显影,最大尺寸150mm*150mm。...

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  • 手动晶圆烘焙热板系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:UNIXX HTp20

    UNIXX HTp20型热板是一款手动桌面型烘焙系统,采用手动PID控制器和定时器开关可确保高的温度控制精度。用于晶圆的单面烘烤,可用于预烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底胶涂覆...

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  • 半自动晶圆烘焙热板系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:UNIXX HTe20

    UNIXX HTe20型热板是一款桌面型半自动烘焙系统,用于晶圆的单面烘烤,可用于预烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底胶涂覆(Primer Vapor)和后烘烤(hardbake...

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