产品参数
产品详情
CIF推出的新一代科研型等离子清洗设备,合理的结构设计,优化的腔体尺寸,使得处理样品更大,适用范围更广。产品性能稳定,操作简单方便,易维护。
等离子清洗机原理
等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体。其中包括中性原子或分子、电子、活性基因、激发态的核素、光子等。等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态,它由离子、电子以及未电离的中性粒子的集合组成,整体呈中性的物质状态。


等离子清洗机就是在真空腔体里,通过射频电源在压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗材料表面,改变材料表面性质,优化材料表面性能,从而实现清洁、改性等目的。

应用领域:
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域,主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。

产品特点
u7寸彩色触摸屏中英文互动操作界面,自动控制监测工艺参数状态,20个配方程序,工艺数据可存储追溯。
uPLC控制整个清洗过程,手动、自动两种工作模式。
u采用美国德威尔(Dwyer)气体浮子流量计或质量流量计(CPC-FM),可输入氧气、氩气、氮气、氢气或混合气等气体,气体控制精准。
u气体返填吹扫,HEPA高效过滤,防止二次污染。
u316不锈钢、石英真空舱可选择,全真空管路系统采用316不锈钢材质,耐腐蚀无污染。
u采用60度倾角操作面板设计,符合人体功能学,操作方便,界面友好。
u上控制下舱体结构设计,结构紧凑,占地空间小。
u内凹式前面板设计,有效保护流量计和舱门不易损坏。
u处理快速高效均匀,无污染,工艺重复性好。
u样品处理温度低,无热损伤和热氧化。
u安全保护,舱门打开,自动关闭电源。
2025-12-26
2024-07-26
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