CIF等离子去胶机

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表面改性

CIF科研型等离子清洗机 CIF微波等离子清洗机 CIF透射电镜样品杆清洗机 CIF扫描电镜等离子清洗机 CIF透射电镜样品杆存储仪 CIF粉体等离子清洗机 CIF转筒等离子清洗机 CIF手套箱专用等离子清洗机 CIF等离子增强器 CIF中试生产型等离子清洗机 CIF在线片式自动真空等离子清洗机 CIF大气等离子清洗机 CIF在线式大气等离子清洗机 CIF角膜塑形镜专用等离子清洗系统 CIF角膜塑形镜涂层处理系统 CIF紫外臭氧清洗机 CIF臭氧中和器 CIF等离子体汽化接枝仪

表面去胶

CIF等离子去胶机

表面刻蚀

CIF等离子刻蚀机

表面涂层

CIF溅射镀膜机 CIF闪蒸成膜仪 CIF旋涂机 CIF烤胶机

产品参数

CIF等离子去胶机采用电感耦合等离子体（ICP）技术，实现各向同性的均匀激发，可温和且高效地处理各类基材及复杂三维结构。设备外观简约紧凑，内部腔体经优化设计，在提升单次处理通量的同时，确保了工艺稳定性与广泛的应用兼容性。其操作直观简便，维护容易，在保证高性能的基础上实现了更优的性价比与更低的长期使用成本，特别适合大学、科研院所及微电子与半导体企业的实验室使用。

属性: 产品名称; 型号; 厂商性质; 访问量; 更新时间

详情: CIF等离子去胶机; SPB5/6/8; 生产厂家; 5194次; 2024-03-18

产品详情

典型应用包括：

u 光刻胶去除：干法或湿法刻蚀前后，对聚合物、金属及掩膜材料等进行剥离；

u 表面预处理：晶圆、芯片、外延片、电路板等表面清洁与活化；

u 特殊工艺清洗：MEMS制造中牺牲层去除、环氧树脂等材料表面有机物清洗。

等离子去胶机原理

等离子去胶机的核心原理是利用等离子体的高活性实现材料去除。其工作过程如下：在真空反应腔内，通过射频或微波能量使工艺气体（如氧气）电离，形成包含氧自由基等高活性粒子的等离子体。这些活性粒子与光刻胶（主要成分为碳氢有机物）发生氧化反应，将其转化为易挥发的产物，如一氧化碳、二氧化碳和水蒸气，随后由真空系统排出，从而实现清洁、去除。为优化工艺，可在反应气体中掺入氮气或氢气，以增强对特定残留物的去除能力。与传统湿法化学去胶相比，该干法工艺不仅去胶效率更高，而且避免了使用大量化学溶剂，更具环境友好性。

产品特点

智能控制与人性化操作

u 配备7英寸彩色触摸屏，中英文双语互动式操作界面。

u 采用PLC工控机控制整个去胶过程，具备手动与自动两种工作模式。

u 具备20组可存储的工艺配方，支持工艺数据存储、输出与全程追溯。

精密工艺与气体控制系统

u 智能真空控制：系统可通过调节气体流量或腔体压力两种模式精准控制真空压力，工艺调控灵活智能。

u 精准气体配送：采用防腐质量流量计，气体控制精度高。标配双路气体系统，可选配多路气路，支持氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气等多种工艺气体。

u 均匀进气设计：采用多孔道进气方式，有效改善传统单孔进气不均的问题，确保处理效果均匀一致。

u 洁净保障：配备HEPA高效过滤器，结合气体返填吹扫功能，有效防止二次污染。

核心结构与材质

u 采用石英真空舱，真空管路系统为316不锈钢材质，耐腐蚀且无污染。