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CIF Flash-Evac系列闪蒸成膜仪基于“快速溶剂挥发诱导成膜”原理研发生产的薄膜制备设备，通过真空环境加速溶剂蒸发，驱动溶质（如有机小分子、聚合物、金属卤化物等）快速自组装形成均匀纳米薄膜。设备具备智能控制、高效成膜与广泛兼容等优势，广泛应用于钙钛矿太阳能电池、OLED、柔性电子与传感等前沿领域。
核心特点
u 智能集成控制：7英寸彩色触控屏，支持中英文界面，实时监测与调节工艺参数，可存储20组配方，工艺全程可追溯。
u 双模式灵活操作：集成PLC控制系统，支持手动/自动一键切换，适应多样研发与量产场景。
u 高质量成膜性能：真空环境促进快速溶剂挥发与溶质有序排列，形成致密均匀、低缺陷的高质量薄膜。
u 精准气体与环境控制：内置质量流量计（0–500 sccm），支持惰性气体保护与HEPA过滤，有效防污，满足高标准洁净工艺需求。
u 广泛兼容与高扩展性：支持多种基底（硅片/玻璃/ITO等）和功能层（电子/空穴传输层等）沉积，优化器件性能与稳定性。可选集成加热台（RT–200°C）。
u 工艺均匀性：精准调控温度、真空度与挥发速率，实现大面积均匀成膜，解决多层器件互溶问题。
u 稳定可靠运行：设备结构稳固，可长时间连续工作，保障工艺一致性与重复性。
2024-07-26 
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